實(shí)驗(yàn)室臺式酸度計(jì) 臺式酸度計(jì) 酸度計(jì) 型號：H09388  

H09388   實(shí)驗(yàn)室臺式酸度計(jì) 可測量pH值溫度臺式測量儀。此款儀器屏幕大，易讀數(shù)，可同時(shí)顯示pH(或mV)和溫度測量數(shù)值。隨屏顯示指南標(biāo)識,可以讓您輕松完成各種操作。穩(wěn)定指示標(biāo)識功能便于數(shù)據(jù)記錄。自動校準(zhǔn),使用DP-HI7662溫度探棒可以在pH測量過程中手動或自動進(jìn)行溫度補(bǔ)償。

H09388  

•?新款外觀設(shè)計(jì),大屏幕顯示
•?人性化操作界面,穩(wěn)定指示標(biāo)識
•?自動校準(zhǔn),自動溫度補(bǔ)償?•?隨屏校準(zhǔn)操作步驟提示
•?同時(shí)顯示pH(或mV)/溫度測量
•?大量程氧化還原電位測量

H09388    專業(yè)實(shí)驗(yàn)室pH/ORP/溫度測定儀

2. 一氧化碳傳感器 壁掛一氧化碳變送器 一氧化碳變送器 型號：H09387  
應(yīng)用
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?環(huán)境監(jiān)控。
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?監(jiān)測燃?xì)夤芫W(wǎng)或燃?xì)夤艿男孤┞省?/span>
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?停車廠，隧道以及易爆易害氣體。
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?用于通風(fēng)，空調(diào)或樓宇控制系統(tǒng)。
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?技術(shù)規(guī)格
?范圍 0-250PPM
?原理 燃?xì)鉂舛绒D(zhuǎn)換成阻值變化
?輸出信號 輸出1：2-10Vdc，4-10mA
?偏差穩(wěn)定度 小于3%全量程無累積。
?精度 正負(fù)5％全量程
?響應(yīng)時(shí)間 小于20S（90%響應(yīng)度）
?環(huán)境溫度 10-50度
?熱啟時(shí)間 30分鐘
?相對濕度 0-98％無結(jié)露
?校正 無需經(jīng)常調(diào)整，建議一年一次。
?尺寸 70寬x122高x32深（mm)

3.浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號：H09386  

一. 產(chǎn)品應(yīng)用
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)先設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成一層納米級的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出來，在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"。“干凝膠膜"經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

二. 產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三. 產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 采用自主設(shè)計(jì)的優(yōu)良的精密傳動裝置，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性；
2. 關(guān)鍵零部件來自中國臺灣及日本進(jìn)口；
3. 多參數(shù)全自動控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
4. 4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；
5. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無振動，使成膜更均勻；

四. 技術(shù)參數(shù)
1. 提拉速度范圍：10～4000 μm/s，最小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
3. 浸漬時(shí)間：1～600 s，最小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～20次，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，最小分辨率1s；
6. 電源：220V/50Hz

4.浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號：H09384  

一. 產(chǎn)品應(yīng)用
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)先設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成一層納米級的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出來，在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"。“干凝膠膜"經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

二. 產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三. 產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 采用自主設(shè)計(jì)的優(yōu)良的精密傳動裝置；
2. 關(guān)鍵零部件來自中國臺灣及日本進(jìn)口；
3. 多參數(shù)全自動控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
4. 4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；
5. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無振動，使成膜更均勻；

四. 技術(shù)參數(shù)
1. 提拉速度范圍：10～5000 μm/s，最小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；
3. 浸漬時(shí)間：1～1200 s，最小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～20次，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，最小分辨率1s；
6. 電源：220V/50Hz

5.浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號：H09383  

一. 產(chǎn)品應(yīng)用
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)先設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成一層納米級的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出來，在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"。“干凝膠膜"經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

二. 產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三.產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 采用自主設(shè)計(jì)的優(yōu)良的級精密傳動裝置；
2. 關(guān)鍵零部件來自中國臺灣及日本進(jìn)口，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性；
3. 采用箱體式設(shè)計(jì)，鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi)，避免外界環(huán)境的干擾；前門及側(cè)面采用透明玻璃，便于觀察鍍膜過程；
4. 多達(dá)6個(gè)參數(shù)全自動控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
5. 可全自動運(yùn)行鍍膜，也可進(jìn)入手動操作模式鍍膜；
6. 7英寸觸摸屏使控制更方便，歷史運(yùn)行記錄可方便查詢；
7. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，工作時(shí)液面無振動，使成膜更均勻；

四. 技術(shù)參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～6000 μm/s，最小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 300×300 mm，厚度 MAX 10mm。
3. 浸漬時(shí)間：1～3600 s，最小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～50次，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，最小分辨率1s；
6. 電源：220V/50Hz

以上參數(shù)資料與圖片相對應(yīng)